全球半导体企业为了率先批量生产200层以上NAND闪存展开了激烈的技术竞争
发布时间:2022年02月09日 14:06 来源:C114通信网 发布者:醉言 阅读量:18013
导读:全球半导体企业为了率先批量生产200层以上NAND闪存,展开了激烈的技术竞争三星电子计划在2022年底或2023年上半年推出200层以上NAND闪存,并在明年上半年开始批量生产
据businesskorea报道,三星电子原计划在202...
全球半导体企业为了率先批量生产200层以上NAND闪存,展开了激烈的技术竞争三星电子计划在2022年底或2023年上半年推出200层以上NAND闪存,并在明年上半年开始批量生产
据businesskorea报道,三星电子原计划在2021年末开始量产176层NAND,但考虑到市场情况,推迟到了2022年第一季度不过美国的美光已经开始量产176层NAND,业内人士预测,三星电子将加快200层以上NAND闪存量产的步伐,以夺回被美光夺走的技术领先地位
业内人士称,三星电子将在128层的单片存储器上叠加96层,推出224层的NAND闪存与176层相比,224层NAND闪存的生产效率和数据传输速度将提高30%
在经历了近半年的低位后,NAND闪存单价终于在12月趋稳,但这或许并不是市场向好的信号。“当前NAND闪存市场仍处于供过于求阶段,近来PC需求复苏使供过于求的状况略为好转,但还不足以改变现状。”集邦咨询分析师叶茂盛表示。
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